DF系列400°C高溫超純氣體擴散器丨半導體真空腔體氣體過濾器
深圳恒歌DF系列高溫超純氣體擴散器，專為半導體高溫制程中的真空腔體放氣需求打造。這款產(chǎn)品憑借全316L不銹鋼的耐高溫特性與0.003μm的精密過濾能力，在400℃高溫環(huán)境下仍能保持穩(wěn)定性能，既實現(xiàn)超純氣體的均勻擴散，又杜絕顆粒污染，成為氣相沉積、高溫蝕刻等嚴苛工藝的理想選擇。
產(chǎn)品特點
●?高溫穩(wěn)定運行：全 316L 不銹鋼結(jié)構(gòu)，可耐受 400℃高溫，適配各類高溫工藝場景。
●?超純氣體保障：過濾精度達 0.003μm，配合潔凈室生產(chǎn)流程，確保氣體純度。
●?防湍流擴散設計：融合擴散器氣流特性，引導氣體平穩(wěn)流動，避免腔體污染。
●?全材質(zhì)防腐：耐酸堿與腐蝕性工藝氣體，延長設備使用壽命。
●?定制化適配：可根據(jù)腔體尺寸與安裝空間個性化設計，提升適配性。
| 擴散器過濾器技術參數(shù) | ||||
| 濾芯材質(zhì)?? | ? 316L不銹鋼粉末燒結(jié) | 殼體材質(zhì) | ? 316L不銹鋼 | |
| 表面處理??? | 內(nèi)表面? Ra ≥32μm | 過濾精度μm | ?≥0.003 可按需定制 | |
| 最大進氣壓力? | 4bar | 最大工作壓差?? | 5bar | |
| 最高使用溫度? | ?400°C | 下游潔凈度 | <0.03particles/liter @>0.01ym rated flow |
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應用場景
應用于半導體高溫工藝的真空腔體系統(tǒng)：在 CVD 化學氣相沉積設備中，保障高溫下工藝氣體的超純與均勻擴散，提升薄膜質(zhì)量;在高溫退火爐的真空排氣環(huán)節(jié)，防止顆粒污染晶圓表面;在離子注入后的真空釋壓過程中，維持腔室潔凈環(huán)境。同時適用于光伏行業(yè)的高溫鍍膜設備及半導體封裝的高溫固化腔體，為各類高溫真空工藝提供可靠的氣體擴散與過濾保障。
